到蒙板上的图案。

一般来说，光刻胶有两大类——正性光刻胶，和负性光刻胶。

正性光刻胶，是曝光部分发生光化学反应溶于显影液，未曝光部分不溶于显影液，仍然保留在衬底上，最终在衬底形成的图案和蒙板上的图案相同。

负性光刻胶，是曝光部分因为交联固化作用不溶于显影液，未曝光部分则溶于显影液，最终在衬底形成的图案和蒙板上的正好相反。

李察经过一番考虑后，决定用正性光刻胶