说起了原理:“光刻机一般分两种,一种是DUV,而另一种就是EUV,DUV使用的光源波长是193纳米,而EUV使用的是135纳米波长的光源。”
“根据瑞利判据R=D/122,可以得出,光学系统能够分辨的尺寸和波长成正比。”
“所以如果要制造更小尺寸的芯片,就需要更短波长的光,也就是EUV的光源。”
“实际上我们都知道EUV的光源使用的还是193纳米的光,但是用它去连续击
第48章 是不是意味着AS公司的人也太蠢了点?(求追读)(2 / 19)
说起了原理:“光刻机一般分两种,一种是DUV,而另一种就是EUV,DUV使用的光源波长是193纳米,而EUV使用的是135纳米波长的光源。”
“根据瑞利判据R=D/122,可以得出,光学系统能够分辨的尺寸和波长成正比。”
“所以如果要制造更小尺寸的芯片,就需要更短波长的光,也就是EUV的光源。”
“实际上我们都知道EUV的光源使用的还是193纳米的光,但是用它去连续击