定律的发展，目前东芯半导体研发的光刻机，属于第一代的450纳米光刻机！

而今年，尼康试产了，全球最先进的第三代248纳米扫描投影式光刻机，理论上最小工艺，能生产180纳米到130纳米的制程芯片！”

吴新屹本以为，听到这个结果后，李东陵恐怕会勃然大怒，毕竟东芯半导体砸了那么多钱进去，结果研发出来的光刻机，却依旧跟尼康、佳能的光刻机，形成了代差，这跟打水漂，