次从193纳米起步，110纳米、90纳米......

直至2017年，科学院光学精密机械与物理研究所，牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收。

2018年科学院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，还可用于制造10纳米级别的芯片。

2021年28纳米的光刻机交付使用，标志着我们可以自己量产28纳米的芯片了。