突破！

而EUV高端光刻机还在研发当中, EUV与DUV的区别主要在波长上。

DUV光刻机，又称为深紫外光刻机,波长主要在193纳米；而EUV光刻机又叫极紫外光刻机，波长主要在13.5纳米，波长越短，意味着精度越高，所制造出来的芯片性能也越先进。

而DUV光刻机已经能大范围量产28纳米的芯片，14纳米和7纳米当然也能生产，只不过良品