“是！”

吴新屹有些奇怪的看了李东明一眼，给出确定的答案。

“第三代光刻机的路线，八十年代就已经提出，今年正式突破，但第四代光刻机，半导体行业，已经争论了很多年，但都没有头绪。

为了把193纳米突破到157纳米，目前最顶级的半导体学术行业，提出了准分子激光、电子束投射、离子投射、X光等多个方案。

这些方案中，